摘要：本實(shí)用新型涉及工控機(jī)控制技術(shù)，公開了一種用于等離子體化學(xué)氣相沉積裝置的控制系統(tǒng)，包括上位機(jī)和多個(gè)下位工控機(jī)，上位機(jī)和下位工控機(jī)之間通過(guò)交換機(jī)連接；上位機(jī)與送料裝置相連，控制送料裝置是否出料及出料量；下位工控機(jī)與推拉舟和氣相沉積裝置內(nèi)的環(huán)境控制儀器相連，控制推拉舟的運(yùn)動(dòng)和氣相沉積裝置內(nèi)的環(huán)境參數(shù)。本實(shí)用新型采用一臺(tái)帶顯示器的工控機(jī)作為上位機(jī)，通過(guò)交換機(jī)與多個(gè)不帶顯示器的下位工控機(jī)相連接，由上位機(jī)向下位工控機(jī)傳送控制數(shù)據(jù)，實(shí)現(xiàn)對(duì)被控制設(shè)備的控制操作，下位工控機(jī)將被控制設(shè)備的工作狀況實(shí)時(shí)反饋給上位機(jī)，由此實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)交互和控制。該控制系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，自動(dòng)化能力強(qiáng)，操作方便，使用和維護(hù)成本低。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請(qǐng)人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人楊海燕;楊浩;李凡;朱麗;高麗穎;李補(bǔ)忠;鄭建宇;
- 地址100016 北京市朝陽(yáng)區(qū)酒仙橋東路1號(hào)M2號(hào)樓2層
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201120370676.1
- 申請(qǐng)時(shí)間2011年09月29日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN202272949U
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2012年06月13日
- 分類號(hào)C23C16/52(2006.01)I;
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