摘要：本實用新型涉及硅片清洗領(lǐng)域，尤其涉及一種自清洗腔體，其包括殼體、噴水嘴和排液口。其中，噴水嘴安裝在殼體外部，排液口在殼體底部。噴水嘴有上下兩排，其上下位置面對面正對。進液軟管的一端在噴水嘴內(nèi)，沒有伸入噴水嘴的部分安裝有調(diào)壓閥，調(diào)壓閥之前有至少一個手閥或氣動閥，殼體上部有排氣管。本實用新型通過調(diào)壓閥控制進液口的流量，來達到不同的清潔效果；殼體上下側(cè)均設(shè)置噴嘴，可以實現(xiàn)均勻清洗；增加排氣孔，排出污染空氣，減少腔體的污染程度，提高硅片的清洗效率，降低自清洗頻率；增加排液口，清洗完成后的廢液可以直接通過排液口排出。最終實現(xiàn)腔體的不拆卸清洗。
- 專利類型實用新型
- 申請人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人張享倩;王波雷;姬丹丹;李偉;王浩;
- 地址100015 北京市朝陽區(qū)酒仙橋東路1號M2樓2層
- 申請?zhí)?/b>CN201320150997.X
- 申請時間2013年03月29日
- 申請公布號CN203265197U
- 申請公布時間2013年11月06日
- 分類號B08B13/00(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;
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