摘要:本實(shí)用新型涉及硅片清洗領(lǐng)域,尤其涉及一種自清洗腔體,其包括殼體、噴水嘴和排液口。其中,噴水嘴安裝在殼體外部,排液口在殼體底部。噴水嘴有上下兩排,其上下位置面對(duì)面正對(duì)。進(jìn)液軟管的一端在噴水嘴內(nèi),沒有伸入噴水嘴的部分安裝有調(diào)壓閥,調(diào)壓閥之前有至少一個(gè)手閥或氣動(dòng)閥,殼體上部有排氣管。本實(shí)用新型通過調(diào)壓閥控制進(jìn)液口的流量,來(lái)達(dá)到不同的清潔效果;殼體上下側(cè)均設(shè)置噴嘴,可以實(shí)現(xiàn)均勻清洗;增加排氣孔,排出污染空氣,減少腔體的污染程度,提高硅片的清洗效率,降低自清洗頻率;增加排液口,清洗完成后的廢液可以直接通過排液口排出。最終實(shí)現(xiàn)腔體的不拆卸清洗。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請(qǐng)人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人張享倩;王波雷;姬丹丹;李偉;王浩;
- 地址100015 北京市朝陽(yáng)區(qū)酒仙橋東路1號(hào)M2樓2層
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201320150997.X
- 申請(qǐng)時(shí)間2013年03月29日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN203265197U
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2013年11月06日
- 分類號(hào)B08B13/00(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;




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