摘要：本實(shí)用新型公開了一種用于制造半導(dǎo)體器件的氧化裝置，包括：工藝管、爐門、密封裝置，爐門位于工藝管底部，并在與工藝管接觸部位形成溝槽，密封裝置位于溝槽里，密封裝置包括O型密封圈及密封圈壓片，密封圈壓片與工藝管接觸，O型密封圈與爐門接觸。本實(shí)用新型公開的一種用于制造半導(dǎo)體器件的氧化裝置在用于制造半導(dǎo)體器件的氧化裝置處于工作狀態(tài)時(shí)，不會(huì)發(fā)生O型密封圈的融化粘接現(xiàn)象，使得設(shè)備的工藝管和爐門在O型密封圈和密封圈壓片的作用下實(shí)現(xiàn)了工藝管內(nèi)與外界嚴(yán)格密封。同時(shí)避免頻繁更換O型密封圈帶來的維護(hù)成本的提高。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請(qǐng)人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人趙燕平;王麗榮;董金衛(wèi);孫少東;
- 地址100016 北京市朝陽區(qū)酒仙橋東路1號(hào)M2號(hào)樓2層
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201020523711.4
- 申請(qǐng)時(shí)間2010年09月08日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN201796870U
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2011年04月13日
- 分類號(hào)H01L21/02(2006.01)I;
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