摘要：本實(shí)用新型提供一種霧化清洗裝置，包括冷卻結(jié)構(gòu)、諧振霧化結(jié)構(gòu)和氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)，所述諧振霧化結(jié)構(gòu)固定于所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)之上，所述冷卻結(jié)構(gòu)固定于所述諧振霧化結(jié)構(gòu)之上，所述諧振霧化結(jié)構(gòu)包括換能器和諧振器，所述諧振器上設(shè)有排液孔，所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)上開(kāi)有第二進(jìn)液孔、第二進(jìn)氣孔和霧化噴射口，所述排液孔與所述第二進(jìn)液孔相連，所述第二進(jìn)液孔與所述霧化噴射口連通，所述第二進(jìn)氣孔和所述霧化噴射口連通。本實(shí)用新型的霧化清洗裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，集成度高，實(shí)現(xiàn)了噴射超微霧化液滴，工藝易實(shí)現(xiàn)，克服單純的霧化機(jī)制產(chǎn)生大尺寸液滴或是噴射流，對(duì)65納米及其以下工藝的硅片表面的圖形造成嚴(yán)重?fù)p傷的問(wèn)題。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請(qǐng)人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人劉效巖;吳儀;初國(guó)超;王浩;
- 地址100015 北京市朝陽(yáng)區(qū)酒仙橋東路1號(hào)M2樓2層
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201320053203.8
- 申請(qǐng)時(shí)間2013年01月30日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN203124323U
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2013年08月14日
- 分類號(hào)B08B3/02(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I;
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