摘要：本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體清洗工藝技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種防止液體飛濺的清洗裝置及具有該裝置的清洗系統(tǒng)。該防止液體飛濺的清洗裝置，包括上殼和下殼，上殼可相對下殼上下運(yùn)動，上殼包括上殼內(nèi)壁和上殼外壁，上殼內(nèi)壁和上殼外壁之間形成中空腔，上殼內(nèi)壁上設(shè)有多個(gè)進(jìn)液孔，進(jìn)液孔與中空腔相通。本實(shí)用新型提供的防止液體飛濺的清洗裝置及具有該裝置的清洗系統(tǒng)，通過在上殼上加設(shè)進(jìn)液孔和中空腔，可實(shí)現(xiàn)在被清洗物的高速旋轉(zhuǎn)過程中，化學(xué)試劑和/或清洗下來的顆粒通過進(jìn)液孔進(jìn)入中空腔內(nèi)并通過排液孔排出，獲得被清洗物的最佳的清潔效果；并且清洗裝置和清洗系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)簡單易清洗，工藝易實(shí)現(xiàn)，廢液還便于收集。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人劉效巖;吳儀;馮曉敏;
- 地址100015 北京市朝陽區(qū)酒仙橋東路1號M2樓2層
- 申請?zhí)?/b>CN201220640683.3
- 申請時(shí)間2012年11月28日
- 申請公布號CN203002672U
- 申請公布時(shí)間2013年06月19日
- 分類號B08B3/02(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;
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