摘要：本發(fā)明涉及半導體清洗工藝技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種防止液體飛濺的清洗裝置及具有該裝置的清洗系統(tǒng)。該防止液體飛濺的清洗裝置，包括上殼和下殼，上殼可相對下殼上下運動，上殼包括上殼內(nèi)壁和上殼外壁，上殼內(nèi)壁和上殼外壁之間形成中空腔，上殼內(nèi)壁上設(shè)有多個進液孔，進液孔與中空腔相通。本發(fā)明提供的防止液體飛濺的清洗裝置及具有該裝置的清洗系統(tǒng)，通過在上殼上加設(shè)進液孔和中空腔，可實現(xiàn)在被清洗物的高速旋轉(zhuǎn)過程中，化學試劑和/或清洗下來的顆粒通過進液孔進入中空腔內(nèi)并通過排液孔排出，獲得被清洗物的最佳的清潔效果；并且清洗裝置和清洗系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)簡單易清洗，工藝易實現(xiàn)，廢液還便于收集。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人劉效巖;吳儀;馮曉敏;
- 地址100015 北京市朝陽區(qū)酒仙橋東路1號M2樓2層
- 申請?zhí)?/b>CN201210494618.9
- 申請時間2012年11月28日
- 申請公布號CN102989705A
- 申請公布時間2013年03月27日
- 分類號B08B3/02(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;
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