摘要：本發(fā)明公開一種應(yīng)用于CVD成膜工藝的膜厚調(diào)節(jié)優(yōu)化方法，包括進(jìn)行基準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)以獲取基準(zhǔn)膜厚；僅改變基準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)的工藝氣體流量進(jìn)行多組測試實(shí)驗(yàn)以獲取測試硅片的膜厚；以相對于基準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)氣體流量的流量變化值以及該流量變化值造成的相對于基準(zhǔn)膜厚的膜厚變化值為變量建立目標(biāo)函數(shù)，并確定該目標(biāo)函數(shù)的約束條件為膜厚變化值與流量變化值呈線性關(guān)系；根據(jù)多組測試實(shí)驗(yàn)結(jié)果及約束條件計算目標(biāo)函數(shù)的值最小時的最優(yōu)流量變化值；以最優(yōu)流量變化值調(diào)節(jié)基準(zhǔn)流量作為最優(yōu)氣體流量并獲取測試硅片的最優(yōu)膜厚；以及判斷最優(yōu)膜厚與目標(biāo)膜厚的膜厚差值大于預(yù)定值時以最優(yōu)氣體流量作為基準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)的工藝氣體流量，并重復(fù)上述步驟。本發(fā)明可提高膜厚調(diào)節(jié)效率。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人林偉華;翟立君;王艾;
- 地址100016 北京市朝陽區(qū)酒仙橋東路1號
- 申請?zhí)?/b>CN201410730080.6
- 申請時間2014年12月04日
- 申請公布號CN104404479A
- 申請公布時間2015年03月11日
- 分類號C23C16/52(2006.01)I;
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