摘要：一種修改襯底載體以提高處理性能的方法，包括在由襯底載體支撐的襯底上沉積材料或制造器件。然后根據(jù)它們?cè)谝r底載體上的對(duì)應(yīng)位置測(cè)量在襯底上沉積的層的參數(shù)。使在襯底上制造的至少一些器件的測(cè)量的參數(shù)或沉積的層的特性與襯底載體的物理性質(zhì)關(guān)聯(lián)，以獲得與襯底載體上的多個(gè)位置對(duì)應(yīng)的襯底載體的多個(gè)物理性質(zhì)。然后在襯底載體上的多個(gè)對(duì)應(yīng)位置中的一個(gè)或更多個(gè)處修改襯底載體的物理性質(zhì)，以根據(jù)襯底載體上的位置獲得沉積的層或制造的器件的期望的參數(shù)。
- 專利類型PCT發(fā)明
- 申請(qǐng)人維易科精密儀器國(guó)際貿(mào)易(上海)有限公司;
- 發(fā)明人J·曼古姆;W·E·奎因;
- 地址美國(guó)紐約
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201080048148.2
- 申請(qǐng)時(shí)間2010年11月12日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN102598239A
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2012年07月18日
- 分類號(hào)H01L21/673(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I;H01L21/20(2006.01)I;
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