摘要:一種幅材基板原子層沉積系統(tǒng),其包括:至少一個(gè)輥,所述至少一個(gè)輥將幅材基板的表面?zhèn)鬏斀?jīng)過多個(gè)處理室。所述多個(gè)處理室包括第一前體反應(yīng)室,所述第一前體反應(yīng)室將幅材基板的表面暴露于第一前體氣體的期望的分壓力下,由此在幅材基板的表面上形成第一層。吹掃室利用吹掃氣體吹掃幅材基板的表面。真空室從幅材基板的表面除去氣體。第二前體反應(yīng)室將幅材基板的表面暴露于第二前體氣體的期望的分壓力下,由此在幅材基板的表面上形成第二層。
- 專利類型PCT發(fā)明
- 申請人維易科精密儀器國際貿(mào)易(上海)有限公司;
- 發(fā)明人P·斯費(fèi)爾拉佐;
- 地址美國紐約
- 申請?zhí)?/b>CN201080015287.5
- 申請時(shí)間2010年03月16日
- 申請公布號CN102365712A
- 申請公布時(shí)間2012年02月29日
- 分類號H01L21/205(2006.01)I;




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