摘要：一種輥到輥CVD系統(tǒng)，包括至少兩個輥，這些輥在CVD處理期間將幅帶運送通過淀積腔室。淀積腔室限定通道，幅帶在由至少兩個輥運送的同時通過該通道。淀積腔室包括多個處理腔室，這些處理腔室由屏障隔離，這些屏障保持在多個處理腔室中的每一個腔室中的分立的工藝化學性質(zhì)。多個處理腔室中的每一個腔室包括氣體輸入端口和氣體排出端口，以及多個CVD氣體源。多個CVD氣體源的至少兩個聯(lián)接到多個處理腔室中的每一個腔室的氣體輸入端口上。
- 專利類型PCT發(fā)明
- 申請人維易科精密儀器國際貿(mào)易(上海)有限公司;
- 發(fā)明人E·A·阿莫爾;W·E·奎恩;P·斯費爾拉佐;
- 地址美國紐約
- 申請?zhí)?/b>CN201080024863.2
- 申請時間2010年06月03日
- 申請公布號CN102460648A
- 申請公布時間2012年05月16日
- 分類號H01L21/205(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I;
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