摘要：一種多腔室CVD處理系統(tǒng)，包括多個(gè)基片載體，其中，每個(gè)基片載體用于支承至少一個(gè)基片。多個(gè)外殼每個(gè)構(gòu)造成用以形成沉積腔室，該沉積腔室包圍多個(gè)基片載體中的一個(gè)基片載體，以保持用來執(zhí)行處理步驟的獨(dú)立化學(xué)沉積過程化學(xué)性質(zhì)。運(yùn)輸機(jī)構(gòu)按離散步驟將多個(gè)基片載體中的每一個(gè)基片載體運(yùn)輸?shù)蕉鄠€(gè)外殼中的每一個(gè)外殼，這允許在多個(gè)外殼中在預(yù)設(shè)定時(shí)間內(nèi)執(zhí)行處理步驟。在一些實(shí)施例中，基片載體可以是可轉(zhuǎn)動(dòng)的。
- 專利類型PCT發(fā)明
- 申請(qǐng)人維易科精密儀器國(guó)際貿(mào)易(上海)有限公司;
- 發(fā)明人A·帕蘭杰佩;E·A·阿莫爾;W·E·奎恩;
- 地址美國(guó)紐約
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201280035420.2
- 申請(qǐng)時(shí)間2012年07月02日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN103703544A
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2014年04月02日
- 分類號(hào)H01L21/205(2006.01)I;
教育裝備采購(gòu)網(wǎng)企業(yè)微信客服
京公網(wǎng)安備11010802043465號(hào)
