摘要：本發(fā)明公開了一種用于300mm硅片氧化處理的立式氧化爐石英舟旋轉(zhuǎn)裝置，設(shè)有步進(jìn)電機(jī)，石英舟的下方設(shè)有SiC轉(zhuǎn)盤，在該SiC盤的底部中央設(shè)有固定軸，固定軸的下端設(shè)有帶輪，該帶輪通過(guò)傳動(dòng)帶與步進(jìn)電機(jī)傳動(dòng)連接；在固定軸的下部設(shè)有舟旋轉(zhuǎn)定位裝置，上部設(shè)有密封腔，密封腔設(shè)有進(jìn)出氣管，SiC轉(zhuǎn)盤的下面設(shè)有帶水冷卻腔爐門，爐門底部固定設(shè)有軸罩，在軸罩的底端與SiC轉(zhuǎn)盤的固定軸之間設(shè)有密封環(huán)；在爐門下面設(shè)有數(shù)個(gè)緩沖器，在爐門四周下面還設(shè)有密封擋板。本發(fā)明適用于用于300mm硅片氧化處理的立式氧化爐石英舟的旋轉(zhuǎn)裝置，結(jié)構(gòu)完善，控制靈活，水平、垂直位置控制精確。從而使硅片受熱均勻，提高了硅片膜厚均勻性。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人鐘華;趙星梅;董金衛(wèi);王喆;賽義德·賽迪;
- 地址100016 北京市朝陽(yáng)區(qū)酒仙橋東路1號(hào)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN200810240137.9
- 申請(qǐng)時(shí)間2008年12月17日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN101813410B
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2012年11月14日
- 分類號(hào)H01L21/324(2006.01)I;
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