摘要:本實(shí)用新型涉及一種新型的外延P型GaN層生長(zhǎng)結(jié)構(gòu),尤其是一種可提高發(fā)光效率的外延PGaN層生長(zhǎng)結(jié)構(gòu),屬于半導(dǎo)體外延結(jié)構(gòu)的技術(shù)領(lǐng)域。按照本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案,所述可提高發(fā)光效率的外延PGaN層生長(zhǎng)結(jié)構(gòu),包括襯底及生長(zhǎng)于所述襯底上的半導(dǎo)體發(fā)光結(jié)構(gòu),所述半導(dǎo)體發(fā)光結(jié)構(gòu)包括生長(zhǎng)于襯底上的緩沖層,所述緩沖層上生長(zhǎng)有N型化合物半導(dǎo)體材料層,所述N型化合物半導(dǎo)體材料層上生長(zhǎng)有有源層;所述有源層上生長(zhǎng)有電子溢出阻擋層;所述電子溢出阻擋層上生長(zhǎng)P型化合物半導(dǎo)體材料層,所述P型化合物半導(dǎo)體材料層內(nèi)生長(zhǎng)有P型InGaN-GaN超晶格層。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)緊湊,能顯著提高發(fā)光效率,工藝方便,安全可靠。
- 專(zhuān)利類(lèi)型實(shí)用新型
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- 發(fā)明人郭文平;鐘玉煌;姜紅苓;
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- 申請(qǐng)時(shí)間2014年01月14日
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- 分類(lèi)號(hào)H01L33/14(2010.01)I;




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