摘要:一種能提高LED光效的芯片加工方法,涉及光電技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明芯片加工方法步驟為:①在器件上表面進(jìn)行激光劃片至襯底與外延片界面附近,形成溝槽;②采用高溫酸液對(duì)溝槽進(jìn)行腐蝕,獲得期望的形貌;③采用隱形切割工藝在器件內(nèi)部正對(duì)溝槽的位置形成內(nèi)劃痕;④以內(nèi)劃痕的位置進(jìn)行裂片,分為各獨(dú)立的發(fā)光二級(jí)管芯片。同現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明方法同時(shí)采用高溫側(cè)壁腐蝕工藝與隱形切割工藝,能更大程度的提高LED芯片的亮度。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人同方光電科技有限公司;同方股份有限公司;
- 發(fā)明人賴?guó)櫿?
- 地址100083 北京市海淀區(qū)清華同方科技廣場(chǎng)A座29層
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201310023352.4
- 申請(qǐng)時(shí)間2013年01月23日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN103943744A
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2014年07月23日
- 分類號(hào)H01L33/14(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I;




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