摘要：本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體熱處理設(shè)備的溫控方法，熱處理設(shè)備包括爐體和設(shè)于爐體中的工藝管，晶圓在工藝管中進(jìn)行半導(dǎo)體工藝，爐體包括多個溫區(qū)，每一溫區(qū)中至少設(shè)有一超溫?zé)崤己投鄠€控溫?zé)崤?，超溫?zé)崤加糜诟袦y溫區(qū)中的溫度，控溫?zé)崤加糜谡{(diào)節(jié)溫區(qū)中的溫度，方法包括如下步驟：a)對超溫?zé)崤寂c控溫?zé)崤嫉膱缶盘栠M(jìn)行加權(quán)評分；b)若評分不低于第一閾值，則停止向熱處理設(shè)備輸出電功率。該方法增加了實施停止加熱措施時的可信度，還可通過對主、輔控溫?zé)崤嫉恼{(diào)整，有針對性地采用不同的控溫模式，更好地保證設(shè)備的可靠穩(wěn)定運行。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人張乾;王艾;
- 地址100016 北京市朝陽區(qū)酒仙橋東路1號
- 申請?zhí)?/b>CN201310688368.7
- 申請時間2013年12月16日
- 申請公布號CN103677009A
- 申請公布時間2014年03月26日
- 分類號G05D23/22(2006.01)I;
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