摘要：本發(fā)明提供了一種太陽能電池鈍化層分層鍍膜方法和裝置，在太陽能電池生產(chǎn)工藝中引入原子層沉積設(shè)備(ALD)，使用ALD和PECVD以達(dá)到分層鍍膜的裝置和方法。沉積氧化鋁膜的電池片其開路電壓、轉(zhuǎn)換效率、填充因子等參數(shù)較正常生產(chǎn)電池片基本沒有變化，沉積了氧化鋁膜的電池片的短路電流平均值均比正常工藝生產(chǎn)的電池片的短路電流平均值高。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人無錫邁納德微納技術(shù)有限公司;
- 發(fā)明人左雪芹;梅永豐;王永文;
- 地址214028 江蘇省無錫市新區(qū)經(jīng)一路8號(hào)209室
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201110419376.2
- 申請(qǐng)時(shí)間2011年12月14日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN102420272A
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2012年04月18日
- 分類號(hào)H01L31/18(2006.01)I;C23C16/30(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;
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