摘要：本發(fā)明公開了一種硅酸鹽類熒光粉及其表面包覆氧化物隔膜薄膜的裝置和工藝，其中，所述裝置中設(shè)有熒光粉特用沉積室，所述沉積室為單層或多層結(jié)構(gòu)設(shè)置，每層沉積室由熒光粉沉積區(qū)域（1）和布滿沉積區(qū)域（1）周圍的氣道（2）構(gòu)成，所述氣道為原子層沉積的前驅(qū)體以及載氣的進入和排出的管路。本發(fā)明實現(xiàn)了原子層沉積（ALD)技術(shù)在熒光粉外圍包覆隔膜薄膜層以提高其性能的目的。本發(fā)明在ALD技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)明一種特用熒光粉包覆的沉積室，并進一步改進原子層沉積的工藝以滿足熒光粉包覆的要求。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人無錫邁納德微納技術(shù)有限公司;
- 發(fā)明人左雪芹;梅永豐;
- 地址214028 江蘇省無錫市新區(qū)長江南路35號空港產(chǎn)業(yè)園科技商務(wù)中心B棟603室
- 申請?zhí)?/b>CN201310528359.1
- 申請時間2013年10月31日
- 申請公布號CN103668119B
- 申請公布時間2016年06月22日
- 分類號C23C16/455(2006.01)I;C23C16/452(2006.01)I;C23C16/40(2006.01)I;B22F1/02(2006.01)I;
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