摘要：本發(fā)明提供一種源氣隔離的固態(tài)源原子層沉積裝置和方法，前驅(qū)體源料提供系統(tǒng)，包括多個(gè)并聯(lián)的前驅(qū)體源料支路，前驅(qū)體源料支路包括管路和前驅(qū)體源料容器，前驅(qū)體源料容器分為上下兩部分，下部為存放固態(tài)前驅(qū)體源料的固態(tài)源容器，上部為氣態(tài)前軀體存儲(chǔ)的氣態(tài)源容器，其中間設(shè)置有控制兩者聯(lián)通與斷開的閥門，氣態(tài)源容器兩端設(shè)有脈沖執(zhí)行器，固態(tài)源容器上設(shè)置有加熱裝置，各前驅(qū)體源料支路上設(shè)置有閥門，在一端匯集成前驅(qū)體源料總路后與吹掃氣輸送系統(tǒng)連接至反應(yīng)腔體系統(tǒng)，反應(yīng)腔體系統(tǒng)通過真空控制閥連接至真空泵，前驅(qū)體源料支路另一端連接至載氣系統(tǒng)。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人無錫邁納德微納技術(shù)有限公司;
- 發(fā)明人梅永豐;左雪芹;
- 地址214028 江蘇省無錫市新區(qū)經(jīng)一路8號(hào)209室
- 申請?zhí)?/b>CN201110418621.8
- 申請時(shí)間2011年12月14日
- 申請公布號(hào)CN102418084A
- 申請公布時(shí)間2012年04月18日
- 分類號(hào)C23C16/44(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;
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