摘要：本發(fā)明公開了一種化學氣相沉積固態(tài)前驅體連續(xù)供給系統(tǒng)，由真空室、真空機組、化學尾氣吸附器、化學尾氣處理器組成；真空隔離室位于真空室的上部,坩堝與發(fā)熱體嵌入在真空室內(nèi),真空室外壁有進氣口與可控固態(tài)前驅體揮發(fā)裝置相連通，真空室下端有抽真空口與化學尾氣吸附器連通,化學尾氣吸附器通過真空機組和化學尾氣處理器連通。該系統(tǒng)可實現(xiàn)固態(tài)前驅體的持續(xù)供給，通過伺服機構調(diào)整裝料在爐中的位置達到精確控制固態(tài)前驅體揮發(fā)溫度，進而精確控制前驅體流量；供給系統(tǒng)結構簡單，易與常用的化學氣相沉積設備兼容；有效地提高了固態(tài)前驅體在化學氣相沉積過程中的可控揮發(fā)性、連續(xù)性和均一性，保證實現(xiàn)難熔金屬碳化物涂層或基體的沉積。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人西北工業(yè)大學;
- 發(fā)明人成來飛;王一光;張立同;劉小瀛;涂建勇;朱艷;
- 地址710072 陜西省西安市友誼西路127號646信箱
- 申請?zhí)?/b>CN201310000063.2
- 申請時間2013年01月04日
- 申請公布號CN103122457A
- 申請公布時間2013年05月29日
- 分類號C23C16/455(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I;
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