摘要：本實(shí)用新型公開了一種氣體分配器，在本體內(nèi)設(shè)有輻射狀的氣體分配主管，在氣體分配主管兩側(cè)錯(cuò)位設(shè)置氣體分配支管，并沿氣體分配主管向氣體分配支管方向管路橫截面積逐漸減小，形成樹狀的氣體分配網(wǎng)絡(luò)，使從氣體分配網(wǎng)絡(luò)中心的進(jìn)氣管通入的反應(yīng)氣體或蒸汽可由眾多規(guī)律分布的出氣管垂直均勻地吹向所覆蓋的硅片表面，可實(shí)現(xiàn)在硅片上的均勻反應(yīng)、提高反應(yīng)效率、節(jié)約反應(yīng)氣體消耗及縮小設(shè)備體積，還可使吹掃氣體容易將氣體分配網(wǎng)絡(luò)邊緣位置的殘留氣體吹掃干凈，有效防止在ALD反應(yīng)中誤發(fā)生CVD反應(yīng)，具有提高ALD反應(yīng)的產(chǎn)率和良率及降低成本的顯著特點(diǎn)。
- 專利類型實(shí)用新型
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- 發(fā)明人蘇艷波;趙星梅;克雷格·伯考;蘭云峰;
- 地址100016 北京市朝陽(yáng)區(qū)酒仙橋東路1號(hào)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201521013588.0
- 申請(qǐng)時(shí)間2015年12月09日
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- 申請(qǐng)公布時(shí)間2016年06月01日
- 分類號(hào)C23C16/455(2006.01)I;
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