摘要：本發(fā)明提供一種CIGS薄膜太陽能電池刻劃設(shè)備，包括支撐底座、y向移動單元、x向移動單元、加工平臺、光路刻劃裝置、機械刻劃裝置及控制單元；光路刻劃裝置安裝在x向移動單元上，且其具有進行第一道刻劃的P1刻劃模塊和進行第四道刻劃的P4.1刻劃模塊；機械刻劃裝置設(shè)于x向移動單元的底端，且其具有進行第二道刻劃的P2刻劃模塊、進行第三道刻劃的P3刻劃模塊和進行第四道刻劃的P4.2刻劃模塊。由于該刻劃設(shè)備配置有光路刻劃裝置和機械刻劃裝置，可根據(jù)實際情況對CIGS薄膜太陽能電池的疊層在同一刻劃設(shè)備上進行刻劃，解決了當前的CIGS薄膜太陽能電池刻劃方式需要兩臺或以上刻劃設(shè)備才能完成刻劃操作的問題。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人大族激光科技產(chǎn)業(yè)集團股份有限公司;
- 發(fā)明人陶尚輝;王振華;楊凱;黃秋香;謝建;高云峰;
- 地址518000 廣東省深圳市南山區(qū)高新技術(shù)園北區(qū)新西路9號
- 申請?zhí)?/b>CN201410004969.6
- 申請時間2014年01月06日
- 申請公布號CN104766904B
- 申請公布時間2017年01月11日
- 分類號H01L31/18(2006.01)I;B23K26/36(2014.01)I;B23K26/70(2014.01)I;
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