摘要：本實(shí)用新型涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種前開(kāi)門式類金剛石碳膜沉積裝置，包括真空室、門體、陽(yáng)極靶、陰極靶、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、抽真空裝置和充氣引入座；真空室的上蓋與真空室的室底相對(duì)，真空室的側(cè)壁連接上蓋和室底，以形成一腔室；側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有一開(kāi)口；門體與真空室連接，用于蓋設(shè)于開(kāi)口；陽(yáng)極靶和陰極靶設(shè)置在真空室的內(nèi)部，且，陽(yáng)極靶與陰極靶相對(duì)設(shè)置，陰極靶位于室底與陽(yáng)極靶之間；驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)穿過(guò)室底與陰極靶相連；抽真空裝置與真空室連通；充氣引入座設(shè)置在室底。本申請(qǐng)?jiān)谡婵帐业膫?cè)壁上設(shè)置門體，在需要清理沉積物垃圾時(shí)，打開(kāi)側(cè)壁上的門體，將真空吸頭從真空室的側(cè)壁伸到內(nèi)部進(jìn)行清掃，真空吸頭不再需要拐彎，易于清理底部的沉積物垃圾。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請(qǐng)人成都西沃克真空科技有限公司;
- 發(fā)明人向勇;傅紹英;徐子明;孫力;
- 地址610200 四川省成都市雙流縣蛟龍工業(yè)港（雙流園區(qū)）東海路六段680號(hào)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201620267107.7
- 申請(qǐng)時(shí)間2016年03月31日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN205529026U
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2016年08月31日
- 分類號(hào)C23C16/26(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;
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