摘要：本發(fā)明公開了一種真空爐，包括固定在操作箱的側(cè)壁上的第一真空腔室、固定在操作箱的側(cè)壁上的第二真空腔室、用于蓋設(shè)第二真空腔室的腔蓋。第二真空腔室容置于所述第一真空腔室內(nèi)部；在第二真空腔室的內(nèi)部設(shè)置有載物臺，所述載物臺上放置工件；而在所述第二真空腔室的外壁覆蓋有密閉的加熱腔室，在所述加熱腔室內(nèi)部設(shè)置有加熱組件，所述加熱組件沿所述第二真空腔室的外壁依次排列，用于對所述第二真空腔室進(jìn)行加熱，此結(jié)構(gòu)可將加熱組件和工件區(qū)分，進(jìn)而避免加熱組件對工件的污染，提高工件的質(zhì)量。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人成都西沃克真空科技有限公司;
- 發(fā)明人向勇;傅紹英;楊小軍;
- 地址610200 四川省成都市雙流縣蛟龍工業(yè)港（雙流園區(qū)）東海路六段680號
- 申請?zhí)?/b>CN201610380708.3
- 申請時間2016年05月31日
- 申請公布號CN105890345A
- 申請公布時間2016年08月24日
- 分類號F27B5/05(2006.01)I;F27B5/02(2006.01)I;F27B5/06(2006.01)I;F27B5/14(2006.01)I;F27B5/16(2006.01)I;
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