摘要：本發(fā)明公開了一種真空爐，包括真空腔室，其底部設置凹槽型水冷套，凹槽型水冷套的凹槽底部有放置工件的載物臺，所述凹槽型水冷套的凹槽側(cè)壁和凹槽底部依次排列的加熱組件對該工件進行加熱；所述凹槽型水冷套用于冷卻所述加熱組件；為了冷卻工件，在凹槽內(nèi)還設置有環(huán)繞工件的環(huán)形制冷部件，其上設置有多個排氣孔。本發(fā)明通過所述第一氣體冷卻裝置經(jīng)由所述管道向所述環(huán)形制冷部件通入第一冷卻氣體，并通過所述排氣孔排出以冷卻所述工件，由于輸入到工件處的氣體是冷卻后的氣體，因此比直接輸出氮氣的冷卻時間短，冷卻效率要高。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人成都西沃克真空科技有限公司;
- 發(fā)明人向勇;傅紹英;楊小軍;
- 地址610200 四川省成都市雙流縣蛟龍工業(yè)港（雙流園區(qū)）東海路六段680號
- 申請?zhí)?/b>CN201610377867.8
- 申請時間2016年05月31日
- 申請公布號CN106017071A
- 申請公布時間2016年10月12日
- 分類號F27B5/05(2006.01)I;F27B5/06(2006.01)I;F27B5/14(2006.01)I;F27D9/00(2006.01)I;
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