摘要：本實(shí)用新型公開了一種磁控濺射靶槍，所述磁控濺射靶槍為圓柱形磁控濺射靶槍，包括基座、磁靶和靶材，所述磁靶固定于基座之上，所述靶材通過旋轉(zhuǎn)軸固定在磁靶上；所述磁靶包括磁芯和環(huán)狀磁鐵座，所述環(huán)狀磁鐵座上設(shè)有均勻排列的磁鐵塊，形成中心-外環(huán)的環(huán)狀磁靶設(shè)計(jì)；所述磁芯和磁鐵座環(huán)之間設(shè)有冷卻裝置，所述冷卻裝置包括上下兩個(gè)無氧銅水冷以及位于上下兩個(gè)無氧銅水冷之間的導(dǎo)熱板。所述的磁控濺射靶槍采用的獨(dú)特的中心-外環(huán)的環(huán)狀磁靶設(shè)計(jì)，使磁場全面覆蓋靶材，提高靶材的利用率；采用上下兩個(gè)無氧銅水冷之間設(shè)置導(dǎo)熱板形成冷卻裝置，及時(shí)有效的將磁靶運(yùn)轉(zhuǎn)中產(chǎn)生的熱量散發(fā)出去，保證其長期運(yùn)轉(zhuǎn)的穩(wěn)定性，濺射均勻，以得到質(zhì)量優(yōu)良的薄膜。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請人廈門烯成新材料科技有限公司;
- 發(fā)明人王振中;
- 地址361015 福建省廈門市火炬高新區(qū)創(chuàng)業(yè)園偉業(yè)樓南樓S301C室
- 申請?zhí)?/b>CN201520477129.1
- 申請時(shí)間2015年07月04日
- 申請公布號(hào)CN204779787U
- 申請公布時(shí)間2015年11月18日
- 分類號(hào)C23C14/35(2006.01)I;
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