摘要：本發(fā)明公開一種多功能連續(xù)式磁控濺射鍍膜裝置，包括至少一個(gè)鍍膜室，鍍膜室內(nèi)壁上具有用于磁控濺射鍍膜的可交替使用的立式靶和傾斜靶，對(duì)應(yīng)立式靶在鍍膜室內(nèi)設(shè)置移動(dòng)式的立式基材承載架，對(duì)應(yīng)傾斜靶在鍍膜室內(nèi)設(shè)置移動(dòng)式的傾斜式基材承載架。通過在鍍膜室的靶位口處設(shè)置可交替使用的立式靶和傾斜靶，并對(duì)應(yīng)設(shè)置立式基材承載架和傾斜式基材承載架，使得鍍膜基材在不同要求時(shí)可以選用不同的靶材進(jìn)行鍍膜，并且立式靶和傾斜靶的可交替使用，還可以使得鍍膜室能適應(yīng)更多規(guī)格的產(chǎn)品鍍膜，提高鍍膜裝置的通用性。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人廣東志成冠軍集團(tuán)有限公司;
- 發(fā)明人陳宇;
- 地址523000 廣東省東莞市塘廈鎮(zhèn)田心工業(yè)區(qū)廣東志成冠軍集團(tuán)有限公司
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201210543911.X
- 申請(qǐng)時(shí)間2012年12月14日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN103147053A
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2013年06月12日
- 分類號(hào)C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;
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