摘要：本發(fā)明公開一種調節(jié)式布氣系統(tǒng)及包含其的磁控濺射鍍膜裝置，包括至少兩根平行設置的布氣管，每根布氣管上均設置流量計，相鄰兩根布氣管上錯列設置吹氣部，吹氣部是由多個規(guī)格相同的均勻排列的氣孔構成，每個氣孔沿布氣管的徑向開設，多個氣孔在布氣管沿其軸向依次布置。通過將布氣系統(tǒng)設置為至少兩根布氣管，并在相鄰兩根布氣管上錯列設置吹氣部，可以使布氣系統(tǒng)吹出的氣體能均勻的到達靶面，保證膜層均勻；通過在布氣管上設置流量計，使氣體的流量可實時的調節(jié)，即根據靶面距待鍍膜物體表面的距離、鍍膜厚度的不同，精確的調節(jié)氣體的流量，并且能使各個布氣管上吹出的氣體的流量相等，達到實時控制、精確鍍膜的目的。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人廣東志成冠軍集團有限公司;
- 發(fā)明人陳宇;
- 地址523000 廣東省東莞市塘廈鎮(zhèn)田心工業(yè)區(qū)廣東志成冠軍集團有限公司
- 申請?zhí)?/b>CN201210531667.5
- 申請時間2012年12月10日
- 申請公布號CN103014642A
- 申請公布時間2013年04月03日
- 分類號C23C14/35(2006.01)I;
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