摘要：本發(fā)明涉及一種采用兩步法在Nb基超高溫合金表面制備抗氧化Zr?Y改性硅化物滲層的制備方法，首先采用磁控濺射的方法在Nb基超高溫合金表面沉積不同厚度的Zr膜，然后采用Si?Y擴(kuò)散共滲的方法在沉積Zr膜后的試樣表面制備抗氧化Zr?Y改性硅化物滲層。本發(fā)明解決了Nb基多元超高溫合金高溫抗性能差的技術(shù)難題，能夠獲得均勻、致密，Zr含量可控且與基體結(jié)合緊密的Zr?Y改性硅化物滲層。采用1250℃恒溫氧化實(shí)驗(yàn)進(jìn)行檢測(cè)，共滲后試樣經(jīng)5～200h恒溫氧化后的氧化膜致密，少見脫落，表明本發(fā)明所提供的滲層具有優(yōu)異的高溫抗氧化性能。本發(fā)明所制備的滲層均勻、致密，Zr含量可控且與基體結(jié)合緊密，同時(shí)具有操作方便、成本低廉等一系列優(yōu)點(diǎn)，適于生產(chǎn)和應(yīng)用。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人西北工業(yè)大學(xué);
- 發(fā)明人郭喜平;李軒;喬彥強(qiáng);
- 地址710072 陜西省西安市友誼西路127號(hào)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201410497699.7
- 申請(qǐng)時(shí)間2014年09月25日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN104313541B
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2016年08月24日
- 分類號(hào)C23C14/35(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I;C23C10/44(2006.01)I;C23C28/00(2006.01)I;
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