摘要：一種超精掃描鍍膜及定位光刻設(shè)備，屬于高精度自動化刻蝕設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，其包括減振平臺、高精運動平臺、化學(xué)涂膠或光刻處理盒、冷卻設(shè)備及空壓過濾設(shè)備集成體和CNC數(shù)控裝置。減振平臺消除了設(shè)備固有的振動頻率并隔絕環(huán)境的影響；高精運動平臺采用大推力直線電機(jī)驅(qū)動，直線電機(jī)的高精連續(xù)掃描運動和超精定位運動，為化學(xué)涂膠或光刻處理盒的均勻掃描鍍膜和超精定位光刻提供支持；CNC數(shù)控裝置具備數(shù)字電流伺服控制功能，實現(xiàn)高精運動平臺與化學(xué)涂膠或光刻處理盒在同一時鐘信號下工作。該設(shè)備兼具鍍膜和光刻功能，提高了大面積光柵制造的生產(chǎn)效率，降低了光柵制造設(shè)備的成本。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人嘉興華嶺機(jī)電設(shè)備有限公司;
- 發(fā)明人伍鵬;
- 地址314006 浙江省嘉興市凌公塘路3339號6號樓1樓
- 申請?zhí)?/b>CN201310697462.9
- 申請時間2013年12月17日
- 申請公布號CN103698984B
- 申請公布時間2017年01月04日
- 分類號G03F7/20(2006.01)I;
教育裝備采購網(wǎng)企業(yè)微信客服
京公網(wǎng)安備11010802043465號
