摘要：本發(fā)明公開了一種用于浸沒式光刻的浸液溫控系統(tǒng)，通過其獲得具有穩(wěn)定溫度的浸液，以用于浸沒式光刻工藝中，其特征在于，該溫控系統(tǒng)包括：用于浸液流動(dòng)的浸液管路，待溫控的浸液通過管路進(jìn)口進(jìn)入該浸液管路，溫控后的浸液通過該浸液管路出口輸出；用于對所述浸液進(jìn)行冷卻的工藝?yán)鋮s液回路，工藝?yán)鋮s液在該回路中循環(huán)流動(dòng)；以及熱交換器（6），所述浸液管路和工藝?yán)鋮s液回路同時(shí)流經(jīng)該熱交換器（6），利用該熱交換器（6）完成工藝?yán)鋮s液和浸液的熱交換，獲得具有穩(wěn)定溫度的浸液，實(shí)現(xiàn)對浸液的溫度控制。本發(fā)明的裝置采用內(nèi)部回流結(jié)構(gòu)與熱交換器相結(jié)合實(shí)現(xiàn)對浸液溫度的控制，可以實(shí)現(xiàn)浸沒光刻中對浸液穩(wěn)定的精確穩(wěn)定的控制，提供溫控效率。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人華中科技大學(xué);
- 發(fā)明人李小平;石文中;湯中原;何俊偉;
- 地址430074 湖北省武漢市洪山區(qū)珞喻路1037號
- 申請?zhí)?/b>CN201310079232.6
- 申請時(shí)間2013年03月13日
- 申請公布號CN103176370B
- 申請公布時(shí)間2015年04月15日
- 分類號G03F7/20(2006.01)I;G05D23/20(2006.01)I;
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