摘要：本發(fā)明公開了一種用于浸沒式光刻機(jī)的氣密封及水平和垂直注液回收裝置。在浸沒式光刻機(jī)中的投影物鏡組和硅片之間置有本發(fā)明裝置；包括浸沒單元下端蓋、浸沒單元基體、垂直注液孔板、焊接蓋板和注氣蓋板，浸沒單元下端蓋、垂直注液孔板及注氣蓋板安裝在浸沒單元基體下表面，浸沒單元基體上表面開有氣和液的流道，流道通過焊接蓋板密封覆蓋。本發(fā)明能滿足浸沒式光刻系統(tǒng)中縫隙流場(chǎng)的密封、液體的注入回收、核心流場(chǎng)的流速均一以及縫隙流場(chǎng)穩(wěn)定更新的要求；采用氣密封結(jié)構(gòu)和垂直注液回收結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)縫隙流場(chǎng)的密封，采用特殊的水平注液及回收結(jié)構(gòu)保證了核心流場(chǎng)的流速均一性要求并降低水平回收由于氣液兩相流產(chǎn)生的振動(dòng)和噪聲。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人浙江大學(xué);
- 發(fā)明人傅新;簡勇華;陳文昱;徐寧;徐文蘋;
- 地址310027 浙江省杭州市西湖區(qū)浙大路38號(hào)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201510479159.0
- 申請(qǐng)時(shí)間2015年08月03日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN105045046B
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2017年03月29日
- 分類號(hào)G03F7/20(2006.01)I;
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