摘要：本實(shí)用新型提供一種真空鍍膜設(shè)備的真空室及真空鍍膜設(shè)備，包括：加熱源(1)、支柱(4)、多組傳輸機(jī)構(gòu)與多塊隔板(10)；每組傳輸機(jī)構(gòu)包括傳動(dòng)軸(9)、兩個(gè)軸承座(8)與多個(gè)滾輪(5)，傳動(dòng)軸(9)通過兩個(gè)軸承座(8)安裝于支柱(4)上，傳動(dòng)軸(9)上間隔固定滾輪(5)，滾輪(5)上還固定有橡膠圈(6)；隔板(10)通過螺釘(3)固定于支柱(4)上，隔板(10)上對(duì)應(yīng)橡膠圈(6)的位置開有方孔(11)；其特征在于，所述的隔板(10)上在兩傳輸機(jī)構(gòu)間的位置設(shè)有凹槽(12)。有效解決了高溫下隔板變形的問題。節(jié)約了成本。保證了基片傳送系統(tǒng)的平穩(wěn)運(yùn)行以及鍍膜環(huán)境的穩(wěn)定性，確保了膜層質(zhì)量，有效提高了真空鍍膜設(shè)備的安全性和可靠性。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請(qǐng)人北京北儀創(chuàng)新真空技術(shù)有限責(zé)任公司;
- 發(fā)明人劉潔雅;
- 地址102600 北京市大興區(qū)大興工業(yè)開發(fā)區(qū)前高米店盛坊路儀器儀表基地
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201120234915.0
- 申請(qǐng)時(shí)間2011年07月05日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN202148346U
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2012年02月22日
- 分類號(hào)C23C14/00(2006.01)I;
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