摘要：本實(shí)用新型提供了一種新型真空鍍膜用“U”形真空室，所述“U”形真空室包括一底板以及位于底板兩側(cè)的側(cè)板，其特征在于：所述真空室底板及側(cè)板之間為無(wú)縫“U”形結(jié)構(gòu)。本實(shí)用新型具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、節(jié)省材料、安全性能高的特點(diǎn)。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請(qǐng)人北京北儀創(chuàng)新真空技術(shù)有限責(zé)任公司;
- 發(fā)明人張迎春;劉潔雅;李佳;袁青春;
- 地址102600北京市大興區(qū)大興工業(yè)開發(fā)區(qū)前高米店盛坊路儀器儀表基地
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN200720103860.3
- 申請(qǐng)時(shí)間2007年03月16日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN201010690Y
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2008年01月23日
- 分類號(hào)C23C14/56(2006.01);
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