摘要：本發(fā)明提供了一種低溫藥液清洗裝置，涉及半導(dǎo)體晶片工藝技術(shù)領(lǐng)域，本發(fā)明首先通過(guò)氣體冷卻裝置對(duì)常溫氣體進(jìn)行降溫冷卻，然后將冷卻后的氣體輸送至藥液冷卻裝置內(nèi)，使常溫清洗藥液和低溫冷卻氣體之間發(fā)生熱量交換，從而降低清洗藥液溫度，最后將冷卻后的藥液噴射在晶片表面，提高清洗的均勻性，同時(shí)減少襯底材料的損失。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人滕宇;
- 地址100016 北京市朝陽(yáng)區(qū)酒仙橋東路1號(hào)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201510249968.2
- 申請(qǐng)時(shí)間2015年05月15日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN104826831B
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2016年10月19日
- 分類號(hào)B08B3/08(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I;
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