摘要：本實用新型提供了一種低溫藥液清洗裝置，涉及半導體晶片工藝技術(shù)領(lǐng)域，本實用新型首先通過氣體冷卻裝置對常溫氣體進行降溫冷卻，然后將冷卻后的氣體輸送至藥液冷卻裝置內(nèi)，使常溫清洗藥液和低溫冷卻氣體之間發(fā)生熱量交換，從而降低清洗藥液溫度，最后將冷卻后的藥液噴射在晶片表面，提高清洗的均勻性，同時減少襯底材料的損失。
- 專利類型實用新型
- 申請人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人滕宇;
- 地址100016 北京市朝陽區(qū)酒仙橋東路1號
- 申請?zhí)?/b>CN201520313582.9
- 申請時間2015年05月15日
- 申請公布號CN204620539U
- 申請公布時間2015年09月09日
- 分類號B08B3/08(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I;
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