摘要：本發(fā)明公開了一種用于氣態(tài)氟化氫刻蝕二氧化硅的刻蝕腔體及其系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：刻蝕腔體、氣體產(chǎn)生裝置和控制系統(tǒng)，氣體產(chǎn)生裝置用于將產(chǎn)生的刻蝕氣體、氮氣和乙醇?xì)怏w進(jìn)行混合輸入到刻蝕腔體內(nèi)，所述刻蝕腔體上設(shè)有進(jìn)氣口和出氣口，刻蝕腔體內(nèi)設(shè)有旋轉(zhuǎn)平臺、加熱器和氣體勻流裝置，進(jìn)入刻蝕腔體的混合氣體通過氣體勻流裝置進(jìn)行充分混合，旋轉(zhuǎn)平臺上放置有待刻蝕的半導(dǎo)體器件，控制系統(tǒng)控制氣體產(chǎn)生裝置產(chǎn)生混合氣體，混合氣體在刻蝕腔體內(nèi)充分混合，控制系統(tǒng)控制旋轉(zhuǎn)平臺轉(zhuǎn)動并控制加熱器進(jìn)行加熱。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人河北神通光電科技有限公司;
- 發(fā)明人龐克儉;江西元;邵蘇予;劉勝偉;
- 地址050227 河北省石家莊市鹿泉經(jīng)濟開發(fā)區(qū)昌盛大街21號
- 申請?zhí)?/b>CN201410354793.7
- 申請時間2014年07月24日
- 申請公布號CN104103561A
- 申請公布時間2014年10月15日
- 分類號H01L21/67(2006.01)I;
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