摘要：一種半導體設備承載區(qū)域的硅片分布狀態(tài)光電檢測裝置以及方法，在位于硅片承載器圓周側(cè)邊的機械手U形端部相對位置上，設置有包括發(fā)射端和接收端的第一和第二光電傳感器組；且承載器和機械手間可以作相對旋轉(zhuǎn)和/或定位的運動；在第一檢測子階段的自接收模式下，執(zhí)行硅片凸片的異常狀態(tài)極限位置預掃描指令；通過在第二和第三檢測子階段的互接收模下，執(zhí)行硅片凸片的異常狀態(tài)循環(huán)掃描指令和執(zhí)行硅片分布狀態(tài)異常掃描指令，對硅片發(fā)生處于凸片、疊片、斜片或無片等異常分布狀態(tài)進行掃描檢測，且在承載器的周圍布設多個掃描檢測點，進一步地提高了檢測精度。因此，本發(fā)明可以很好地避免機械手運動造成硅片及設備損傷，技術(shù)實現(xiàn)簡單。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人徐冬;王凱;
- 地址100016 北京市朝陽區(qū)酒仙橋東路1號
- 申請?zhí)?/b>CN201510337060.7
- 申請時間2015年06月17日
- 申請公布號CN104979245A
- 申請公布時間2015年10月14日
- 分類號H01L21/67(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I;
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