摘要：本發(fā)明提供一種高效率制備薄膜器件的高真空三室三掩模庫薄膜沉積系統(tǒng)，該系統(tǒng)由氧化物生長室、金屬生長室、有機(jī)物生長室、手套箱、基片架和掩模庫組件、電動傳送桿組件、傳遞小車組件、熱蒸發(fā)水冷電極、有機(jī)源蒸發(fā)爐、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺、真空測量、膜厚測試及電控系統(tǒng)組成，其特征在于：所述的氧化物生長室、金屬生長室、有機(jī)物生長室頂部均安裝有基片架和掩模庫組件，一個掩模庫可放5個基片架，每個基片架可放9塊基片，因此，在原位真空條件下可實現(xiàn)一次對126片基片進(jìn)行多層膜沉積至器件封裝，大幅度提高多層膜材料及器件制作效率，同時降低薄膜沉積系統(tǒng)的建造成本。適用于生長各種薄膜，制備有機(jī)發(fā)光器件、有機(jī)薄膜太陽能電池以及有機(jī)薄膜晶體管等薄膜器件。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人云南大學(xué);中國科學(xué)院沈陽科學(xué)儀器股份有限公司;
- 發(fā)明人呂正紅;張晉;王登科;劉春;周紅章;孫影;
- 地址650091 云南省昆明市翠湖北路2號云南大學(xué)
- 申請?zhí)?/b>CN201310000754.2
- 申請時間2013年01月05日
- 申請公布號CN103060755A
- 申請公布時間2013年04月24日
- 分類號C23C14/24(2006.01)I;C23C14/04(2006.01)I;
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