摘要：本發(fā)明涉及一種真空換料水平直線蒸鍍源，該蒸鍍源采用水平直線下噴式蒸鍍，蒸鍍寬度300mm。適用于升華溫度低于2500C的非金屬元素的蒸鍍。本發(fā)明具有體積小、結(jié)構(gòu)簡單、制作成本低可在線連續(xù)補(bǔ)給或更換原料、原料加熱多點(diǎn)可控等優(yōu)點(diǎn)。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人蔡勇;金晨;
- 地址100016 北京市朝陽區(qū)酒仙橋東路1號
- 申請?zhí)?/b>CN201310045492.1
- 申請時(shí)間2013年02月03日
- 申請公布號CN103966552A
- 申請公布時(shí)間2014年08月06日
- 分類號C23C14/24(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I;
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京公網(wǎng)安備11010802043465號
