摘要：本實用新型涉及一種平帶沉積氣路裝置，具有真空室及設(shè)于真空室內(nèi)的托板，在真空室截面上設(shè)置上隔板及下隔板將真空室分成上下三層，上部為進氣混氣層，中部為基帶與氣體反應(yīng)層，下部為抽氣層，上隔板及下隔板上設(shè)有氣孔，托板安裝于氣體反應(yīng)層中。本實用新型可使氣路中氣體充分混合均勻，壓力和流量穩(wěn)定，保證工藝氣體能垂直流過基帶的表面與基帶充分接觸，沉積的薄膜均勻，提高了產(chǎn)品質(zhì)量。
- 專利類型實用新型
- 申請人沈陽騰鰲真空技術(shù)有限公司;
- 發(fā)明人慈連鰲;
- 地址110101 遼寧省沈陽市蘇家屯區(qū)大淑堡瑰香街83-5號
- 申請?zhí)?/b>CN201520493170.8
- 申請時間2015年07月09日
- 申請公布號CN204779799U
- 申請公布時間2015年11月18日
- 分類號C23C16/455(2006.01)I;
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