摘要：本實(shí)用新型公開一種用于真空鍍膜設(shè)備的真空閥，屬真空鍍膜設(shè)備的控制閥領(lǐng)域。該真空閥包括：閥體、氣缸和閥蓋；閥體內(nèi)為中空結(jié)構(gòu)，閥體上設(shè)有真空容器連接口、低真空泵連接口和高真空泵連接口，真空容器連接口經(jīng)閥體內(nèi)與低真空泵連接口、高真空泵連接口連通；閥體上設(shè)置氣缸，氣缸與閥體連接處密封連接；氣缸的氣缸軸伸入到閥體內(nèi)，氣缸軸設(shè)有閥蓋，閥蓋朝向高真空泵連接口，能在氣缸軸驅(qū)動(dòng)下關(guān)閉或打開高真空泵連接口。該真空閥可同時(shí)連接低真空泵和高真空泵，可控制所連接的高真空泵通路的開通與關(guān)閉，以高真空泵來增大抽真空的抽速，從而對(duì)閥體所連接的真空鍍膜設(shè)備的真空容器更快的抽真空，使其能更快的達(dá)到高真空狀態(tài)。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請(qǐng)人北京北儀創(chuàng)新真空技術(shù)有限責(zé)任公司;
- 發(fā)明人王燕;侯榮華;
- 地址102600 北京市大興區(qū)大興工業(yè)開發(fā)區(qū)前高米店盛坊路儀器儀表基地
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201320287251.3
- 申請(qǐng)時(shí)間2013年05月23日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN203307431U
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2013年11月27日
- 分類號(hào)C23C14/56(2006.01)I;
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