摘要：本實(shí)用新型提供一種噴霧粒度儀氣霧正壓保護(hù)裝置，屬于粒度分析儀器領(lǐng)域，其結(jié)構(gòu)包括保護(hù)腔、管道和氣源，保護(hù)腔上設(shè)置有氣流進(jìn)口和氣流出口，管道的一端和氣流進(jìn)口相連接，管道的另一端和氣源相連接。使用時，將該裝置的保護(hù)腔安裝在噴霧粒度儀并使氣流出口處于正對鏡頭的方向，氣體從氣源經(jīng)過管道，到達(dá)保護(hù)腔并充滿保護(hù)腔后氣流排出，實(shí)現(xiàn)對鏡頭的保護(hù)，避免氣霧接近甚至附著在鏡頭上。本實(shí)用新型設(shè)計合理、結(jié)構(gòu)簡單、方便實(shí)用，應(yīng)用在噴霧粒度儀上，在不增加現(xiàn)有儀器體積的前提下，增強(qiáng)了設(shè)備(尤其是鏡頭)對于氣霧的防護(hù)能力，對光路提供有效的保護(hù)。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請人濟(jì)南微納顆粒儀器股份有限公司;
- 發(fā)明人任中京;
- 地址250100 山東省濟(jì)南市高新區(qū)大學(xué)科技園北區(qū)F座東2單元
- 申請?zhí)?/b>CN201120267651.9
- 申請時間2011年07月26日
- 申請公布號CN202166592U
- 申請公布時間2012年03月14日
- 分類號G01N15/02(2006.01)I;
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