摘要：本實用新型公開了一種磁控濺射鍍膜設(shè)備，其包括真空箱、設(shè)于所述真空箱內(nèi)的移動小車、與所述移動小車連接并驅(qū)使所述移動小車作水平移動的直行驅(qū)動裝置、與所述直行驅(qū)動裝置連接的靶連接座、分別與所述直行驅(qū)動裝置以及靶連接座連接并驅(qū)動所述靶連接座作縱向移動的升降驅(qū)動裝置、與所述靶連接座固定連接磁控濺射靶。通過直行驅(qū)動裝置推動移動小車作水平移動，同時在升降驅(qū)動裝置的作用下推動靶連接座進(jìn)行高度位置的調(diào)整，使磁控濺射靶成為可作二維運動的移動靶，而磁控濺射靶本身為長條形，從而實現(xiàn)磁控濺射的三維調(diào)節(jié)功能，適合大尺寸、大曲率、深彎、異型等基片的鍍膜要求，使所鍍制的薄膜具有高均勻性、高牢固度、高耐磨度等優(yōu)點。
- 專利類型實用新型
- 申請人廣東中環(huán)真空設(shè)備有限公司;
- 發(fā)明人王健文;韓沖;梁凱基;蔡東鋒;
- 地址526020 廣東省肇慶市端州區(qū)廠排街一巷60號
- 申請?zhí)?/b>CN201120127894.2
- 申請時間2011年04月27日
- 申請公布號CN202090052U
- 申請公布時間2011年12月28日
- 分類號C23C14/35(2006.01)I;
教育裝備采購網(wǎng)企業(yè)微信客服
京公網(wǎng)安備11010802043465號
