摘要：本發(fā)明提供一種放電弧斑滿布靶面的真空陰極電弧源，包括一平板靶材，平板靶材底面設(shè)有一對(duì)應(yīng)的靶座組件，平板靶材與靶座組件用緊固件緊密貼合連接；靶座組件由冷卻水道構(gòu)件和磁路構(gòu)件上下層疊組成；冷卻水道構(gòu)件為包括冷卻水道金屬上蓋薄板及冷卻水道金屬底板的扁形冷卻水道并設(shè)有進(jìn)、出水口；磁路構(gòu)件由磁極分別為上、下端面的多個(gè)小圓柱形磁體同極同向(相同磁極朝向相同)豎直排列在一靶座底板上組成。本發(fā)明具有如下優(yōu)點(diǎn)：放電面積大大增加，允許增加若干倍靶電流，有利于大幅度提高沉積速率；分散電弧放電幾乎在整個(gè)靶面上放電，令靶面燒蝕更均勻，提高靶材利用率；有利于靶面導(dǎo)熱和水冷帯走熱量，有利于改善膜層質(zhì)量。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人東莞市匯成真空科技有限公司;
- 發(fā)明人李志榮;羅志明;李志方;袁鎮(zhèn)海;
- 地址523838 廣東省東莞市大嶺山鎮(zhèn)顏屋村第四工業(yè)區(qū)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201510450277.9
- 申請(qǐng)時(shí)間2015年07月28日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN105039915A
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2015年11月11日
- 分類號(hào)C23C14/32(2006.01)I;
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