摘要：一種具有前饋補(bǔ)償?shù)陌雽?dǎo)體工藝設(shè)備的溫控方法，該半導(dǎo)體工藝設(shè)備中包括一個(gè)或多個(gè)控溫區(qū)的溫控，該方法包括根據(jù)半導(dǎo)體工藝預(yù)設(shè)的溫控條件，構(gòu)建溫控的前饋補(bǔ)償參考信號(hào)軌跡，即將整個(gè)溫控升溫階段劃分為包括高速升溫階段和標(biāo)準(zhǔn)升溫階段，所述高速升溫階段完成從初始溫度t到第一中間溫度t’的升溫過程，所述標(biāo)準(zhǔn)升溫階段完成從第一中間溫度t’到目標(biāo)溫度T的升溫過程；標(biāo)準(zhǔn)升溫階段的參考信號(hào)軌跡滿足所述預(yù)設(shè)溫控條件，高速升溫階段的升溫速率高于標(biāo)準(zhǔn)升溫階段的升溫速率；以及基于獲得的前饋補(bǔ)償參考信號(hào)的軌跡，進(jìn)行該溫控系統(tǒng)的控制操作。本發(fā)明能減弱溫控系統(tǒng)時(shí)滯性的影響，加快爐體的升溫效果，提高半導(dǎo)體工藝設(shè)備的產(chǎn)能。
- 專利類型發(fā)明專利
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- 發(fā)明人王峰;付運(yùn)濤;劉晨曦;
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- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201410554332.4
- 申請(qǐng)時(shí)間2014年10月17日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN104298268A
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2015年01月21日
- 分類號(hào)G05D23/00(2006.01)I;
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