摘要：一種小型磁控濺射鍍鏌機(jī)，涉及一種鍍鏌機(jī)，所述鍍鏌機(jī)包括上開(kāi)蓋結(jié)構(gòu)的圓柱型真空室、加熱旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)、磁力耦合器、磁控濺射靶、渦輪分子泵、擋板閥、隔膜泵、全量程規(guī)、冷卻水循環(huán)系統(tǒng)、機(jī)箱；圓柱型真空室上部安有一個(gè)上蓋，上蓋由兩根氣壓桿支撐，由旋紐鎖緊，兩只磁控靶傾斜安裝，其中心延長(zhǎng)線正對(duì)加熱旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)的中心；加熱旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)位于圓柱型真空室的底部，安裝于磁力耦合器之上；擋板閥上面設(shè)有全量程規(guī)，并且連接在渦輪分子泵之上。本實(shí)用新型采用PLC+觸摸屏控制，具有操作維護(hù)簡(jiǎn)單、裝樣、取樣方便、組合靈活，體積小巧，所以搬運(yùn)、安裝方便，特別適合于學(xué)院教學(xué)、科研使用。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請(qǐng)人沈陽(yáng)科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司;
- 發(fā)明人李雙江;張旭;趙闖;
- 地址110171 遼寧省沈陽(yáng)市渾南新區(qū)學(xué)風(fēng)路26-2-7號(hào)5門(mén)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201620962923.X
- 申請(qǐng)時(shí)間2016年08月29日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN206069996U
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2017年04月05日
- 分類號(hào)C23C14/35(2006.01)I;
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