摘要：本實(shí)用新型涉及涂布領(lǐng)域，公開了一種涂布機(jī)，包括基膜放料輥、浸涂輥、漿料槽、擠壓對輥和收料輥，浸涂輥設(shè)置在漿料槽中，浸涂輥的下端沒入漿料中；基膜放料輥放出的基膜通過浸涂輥和擠壓對輥，由收料輥進(jìn)行收卷；擠壓對輥由間隙設(shè)置的定涂輥和動涂輥組成，基膜從定涂輥和動涂輥之間的間隙通過。通過本裝置涂覆出來的基膜，其厚度均勻，并可以根據(jù)需求調(diào)節(jié)擠壓對輥的間隙，從而調(diào)節(jié)涂覆的厚度，滿足多種厚度需求。根據(jù)需要，還可以在涂覆后的基膜上復(fù)合一層底膜，厚度均勻的基膜與底膜復(fù)合出來的產(chǎn)品無氣泡，符合質(zhì)量要求。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人胡珊;金路;趙東林;丁立翔;宋建華;丁廣文;元東范;李大虎;
- 地址100015 北京市朝陽區(qū)酒仙橋東路1號M2樓2層
- 申請?zhí)?/b>CN201320487068.8
- 申請時間2013年08月09日
- 申請公布號CN203448234U
- 申請公布時間2014年02月26日
- 分類號B05C1/08(2006.01)I;B05C11/02(2006.01)I;B05C9/14(2006.01)I;
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