摘要：本發(fā)明公開了一種微型半球諧振陀螺及其制備方法，屬于微/納加工制造領(lǐng)域。制備時(shí)，首先ICP刻蝕高阻硅片得到硅體1；沉積多晶硅并刻蝕得到初期電極3；正面沉積二氧化硅，圖形化形成二氧化硅掩膜4；刻蝕得到半球諧振子空腔5和電極6；去除二氧化硅掩膜4，背面ICP刻蝕得到支撐體空腔7；正反兩面沉積二氧化硅絕緣層8；正反兩面沉積多晶硅，得到半球諧振子9、支撐體10和信號(hào)加載電極11；正面減薄拋光，去除多余多晶硅，刻蝕二氧化硅，得到可動(dòng)的半球諧振子9。本發(fā)明的有益效果：加工支撐體空腔，并沉積二氧化硅和多晶硅，易于控制支撐體的支撐面的大小；利用加工電極槽沉積填充可導(dǎo)電的多晶硅，克服了驅(qū)動(dòng)電極和敏感電極工作面積過小的缺點(diǎn)。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人西北工業(yè)大學(xué);
- 發(fā)明人謝建兵;郝永存;常洪龍;申強(qiáng);苑偉政;
- 地址710072 陜西省西安市友誼西路127號(hào)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201310022146.1
- 申請(qǐng)時(shí)間2013年01月21日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN103115616A
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2013年05月22日
- 分類號(hào)G01C19/00(2013.01)I;G01C25/00(2006.01)I;
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