摘要:本發(fā)明公開了一種半導(dǎo)體工藝配方生成方法及系統(tǒng),該方法包括步驟:S1.根據(jù)不同腔室的特征,對(duì)工藝配方進(jìn)行動(dòng)態(tài)配置,生成配置文件,并進(jìn)行配方參數(shù)的約束設(shè)置;S2.根據(jù)配置文件以及配方參數(shù)的約束設(shè)置,生成工藝配方文件。本發(fā)明的方法及系統(tǒng)利用半導(dǎo)體工藝過程中某些流程的相同相似性,可實(shí)現(xiàn)快速生成以及檢驗(yàn)配方。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人郭訓(xùn)容;楊曉;吳儀;
- 地址100016 北京市朝陽區(qū)酒仙橋東路1號(hào)M2號(hào)樓2層
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201110106674.6
- 申請(qǐng)時(shí)間2011年04月27日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN102243670A
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2011年11月16日
- 分類號(hào)G06F17/50(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;




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