一種ICP-MS分析系統(tǒng)

　　摘要：本實用新型公布了一種ICP-MS分析系統(tǒng)，所述分析系統(tǒng)包括ICP源、檢測器；所述分析系統(tǒng)進一步包括：線性離子阱，所述線性離子阱設置在所述ICP源和檢測器之間。本實用新型具有更高的碰撞碎裂效率、更多的離子-分子反應通道、以及提供高靈敏度的測量模式等優(yōu)點。

專利類型實用新型
申請人聚光科技(杭州)股份有限公司;
發(fā)明人梁炎;劉立鵬;鄭毅;
地址310052 浙江省杭州市濱江區(qū)濱安路760號
申請?zhí)?/b>CN201220756835.6

申請時間2012年12月29日

申請公布號CN203053917U

申請公布時間2013年07月10日

分類號G01N27/62(2006.01)I;

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